Máquina de recubrimiento PVD de carbono tipo diamante (DLC)

DLC por PVD + PECVD C flotante
Tecnología de deposición a baja temperatura
Fuente de pulverización catódica de múltiples objetivos

Introducción

Adopta la tecnología de pulverización catódica magnetrónica cerrada desequilibrada/filtrada por arco catódico FCVA, que deposita películas de recubrimiento DLC con contenido de hidrógeno o sin hidrógeno a baja temperatura, con bajo coeficiente de fricción, alta resistencia al desgaste y características autorreductoras

Tecnología central

■ Proceso DLC independiente, baja tensión de la película, sin grietas ni descamación

■ Bastidor tridimensional extraíble, sujeción sencilla, adecuado para diversas piezas de trabajo

■ Sistema operativo completamente automático, llamada con una sola tecla de los parámetros del proceso

■ Compatible con diversos sistemas de películas DLC para satisfacer distintas condiciones de trabajo

Ventajas Principales

■ Coeficiente de fricción ≤ 0,15, excelente autolubricidad, sin necesidad de lubricación adicional

■ Recubrimiento ta-C libre de hidrógeno con dureza de hasta 63 GPa, excelente resistencia al desgaste

■ Depósito a baja temperatura (100–200 ℃), adecuado para sustratos sensibles al calor

■ Película densa, resistente a ácidos y álcalis, resistente a la corrosión y a la niebla salina

Configuración básica

Modelo	CCZK-1012-DLC	CCZK-1416-DLC
Tamaño de la cámara	D1000 mm * A1200 mm	D1400 mm * A1600 mm
Carga de Poder	140kw	170kW
Área de aterrizaje	L5400 mm * A5200 mm * A2900 mm	L6155 mm * A5050 mm * A3210 mm
Colores de recubrimiento	Negro, Gris Oscuro, Negro Mate, Arcoíris
Películas de recubrimiento	DLC con hidrógeno, ta-C sin hidrógeno, DLC con W, GLC, WC/C; Dureza 1500 HV ~ 63 GPa, coeficiente de fricción ≤ 0,15
Sistema de vacío	Bomba de difusión / bomba molecular turbo + bomba de refuerzo + bomba de paletas rotativas + bomba de retención (bomba criogénica y polibomba son opcionales)
Vacío Ultimate	5 × 10 ^-4Pa (Cámara limpia y vacía)
Sistema de rotación	Rotación y traslación planetarias 6/8/10/12/16 ejes

Sistema de Recubrimiento	CKB ^®Cátodo de pulverización planar / CKB ^®Cátodo de pulverización con varilla cilíndrica / IET ^®Grabado / Trazado de gas MFC distribuido / Pulverización HIPIMS


Fuente de alimentación	Fuente de alimentación de pulverización de corriente continua pulsada / Fuente de alimentación de pulverización bipolar Alimentación de pulverización RF / Alimentación de polarización pulsada / Alimentación HIPIMS / IET ^®potencia
Sistema Operativo	Totalmente automático (IPC/PLC) + operación remota + sistema de alarma (Protocolo de enlace OPC-UA disponible)

Observación	El tamaño de la configuración específica puede diseñarse según los requisitos del cliente respecto al producto a recubrir

Aplicación

Ampliamente utilizado en pistones de motor, sellos deslizantes, herramientas de corte para metales no ferrosos, dispositivos médicos, componentes de precisión para teléfonos móviles y piezas decorativas de gama alta, y puede formar una película densa.