Máquina de recubrimiento al vacío por pulverización catódica magnetrónica PVD

Núcleo del objetivo refrigerado indirectamente
Campo magnético cerrado desequilibrado
Cátodo plano/cilíndrico opcional

Introducción

Adopta tecnología de pulverización catódica magnetrónica planar/rotatoria, capaz de depositar películas metálicas y compuestas densas y uniformes, adecuadas para diversos sustratos y aplicaciones

Tecnología central

■ Objetivos planares/rotatorios opcionales, alta adaptabilidad

■ Control PLC totalmente automático, fácil operación

■ Capaz de recubrimiento sencillo/multicapa, calidad de película pura

■ Adecuado para piezas de trabajo grandes/pequeñas y de formas especiales

Ventajas Principales

■ Película densa y uniforme con fuerte adherencia

■ Proceso estable con buena repetibilidad

■ Recubrimiento a baja temperatura, sin daño a sustratos sensibles al calor

■ Alto aprovechamiento del objetivo, bajo costo de mantenimiento

Configuración básica

Modelo	CCZK-700-SF	CCZK-1012-SF	CCZK-1416-SF	CCZK-1618-SF	CCZK-1820-SF
Tamaño de la cámara	D700 mm × H700 mm	D1000 mm * A1200 mm	D1400 mm * A1600 mm	D1600 mm * A1800 mm	D1800 mm * A2000 mm
Carga de Poder	58KW	75KW	175KW	230kW	255kw
Área de aterrizaje	L4200 mm * A4200 mm * A2300 mm	L5400 mm * A5200 mm * A2900 mm	L6155 mm * A5050 mm * A3210 mm	L6500 mm * A4750 mm * A3200 mm	L7800 mm * A5200 mm * A2600 mm
Colores de recubrimiento	Dorado, Plateado, Negro metálico, Oro rosa, Azul, Gris, Transparente
Películas de recubrimiento	Película de metal puro, película de aleación, película compuesta; Dureza de 500 a 3000 HV, densa y resistente al desgaste
Sistema de vacío	Bomba de difusión / bomba molecular turbo + bomba de refuerzo + bomba de paletas rotativas + bomba de retención (bomba criogénica y polibomba son opcionales)
Vacío Ultimate	5 × 10 ^-4Pa (Cámara limpia y vacía)
Sistema de rotación	Rotación y traslación planetarias 6/8/10/12/16 ejes

Sistema de Recubrimiento	CKB ^®Cátodo de pulverización planar / CKB ^®Cátodo de pulverización con varilla cilíndrica / IET ^®Grabado / Trazado de gas MFC distribuido / Pulverización HIPIMS


Fuente de alimentación	Fuente de alimentación de pulverización de corriente continua pulsada / Fuente de alimentación de pulverización bipolar Alimentación de pulverización RF / Alimentación de polarización pulsada / Alimentación HIPIMS / IET ^®potencia
Sistema Operativo	Totalmente automático (IPC/PLC) + operación remota + sistema de alarma (Protocolo de enlace OPC-UA disponible)

Observación	El tamaño de la configuración específica puede diseñarse según los requisitos del cliente respecto al producto a recubrir

Aplicación

Ampliamente utilizado en piezas decorativas de ferretería, vidrio para electrodomésticos, componentes automotrices, productos digitales 3C, lentes ópticas, frascos de vidrio para cosméticos, componentes semiconductores, componentes de instrumentos de precisión y adornos artesanales de alta gama; permite ofrecer una amplia gama de colores y formar una capa uniforme y densa.