Alle categorieën

DLC-diamantachtige koolstof PVD-coatingmachine

Startpagina >  Producten >  DLC-diamantachtige koolstof PVD-coatingmachine

DLC-diamantachtige koolstof PVD-coatingmachine

  • PVD+PECVD DLC C oating
  • Afscheidingsmethode bij lage temperatuur
  • Magnetron-sputterbron met meerdere doelen

Inleiding

Gebruikt ongebalanceerde gesloten magnetron-sputtertechnologie/FCVA-gefilterde kathodeboogtechnologie, waarmee een DLC-coatingfilm met of zonder waterstof wordt afgezet bij lage temperatuur, met lage wrijving, hoge slijtvastheid en zelfsmerende eigenschappen

Kerntechnologie

■ Onafhankelijk DLC-proces, lage filmspanning, geen barsten of afschilferen

■ 3D-demonteerbaar rek, eenvoudig vastzetten, geschikt voor diverse werkstukken

■ Volledig automatisch bedieningssysteem, één-knop-aanroep van procesparameters

■ Compatibel met diverse DLC-filmsystemen om aan verschillende werkomstandigheden te voldoen

Kernvoordelen

■ Wrijvingscoëfficiënt ≤ 0,15, uitstekende zelfsmering, geen extra smering vereist

■ Waterstofvrije ta-C-coating met een hardheid tot 63 GPa, uitstekende slijtvastheid

■ Afscheiding bij lage temperatuur (100–200 °C), geschikt voor warmtegevoelige substraten

■ Dichte film, bestand tegen zuren en alkaliën, corrosiebestendig, bestand tegen zoutnevel

Basisconfiguratie

Model CCZK-1012-DLC CCZK-1416-DLC
Chamber size D1000 mm × H1200 mm D1400 mm × H1600 mm
Power Load 140kw 170kW
Landingsgebied L5400 mm × B5200 mm × H2900 mm L6155 mm × B5050 mm × H3210 mm
Coatingkleuren Zwart, Donkergrijs, Matzwart, Regenboog
Coatingfilms DLC met waterstof, ta-C zonder waterstof, W-DLC, GLC, WC/C; Hardheid 1500 HV tot 63 GPa, wrijvingscoëfficiënt ≤ 0,15
Vacuümsysteem Diffusiepomp/turbomoleculaire pomp + boosterpomp + draaivleugelpomp + houdpomp (cryopomp en polycold zijn optioneel)
Uiteindelijke Vacuüm 5 × 10 -4Pa (schone en lege kamer)
Roteersysteem Planetaire rotatie en revolutie
6/8/10/12/16-assig
Coatingsysteem CKB ®Planair sputterkathode / CKB ®Cilindrische staaf-sputterkathode /
IET ®Etsen / Gedistribueerd MFC-gaspad / HIPIMS-sputteren
Stroomvoorziening Gepulste gelijkstroom-sputtervermogen / Bipolaire sputtervermogen /
RF-sputtervermogen / Pulsed-biasvermogen / HIPIMS-vermogen / IET ®vermogen
Besturingssysteem Volledig automatisch (IPC/PLC) + bediening op afstand + alarmsysteem
(OPC-UA-koppelingsprotocol beschikbaar)
Opmerking De specifieke configuratie-afmeting kan worden ontworpen op basis van de coatingproductvereisten van de klant

Toepassing

Wijd gebruikt in motorpistons, glijdende afdichtingen, snijgereedschappen voor non-ferro metalen, medische apparatuur, precisie-onderdelen voor mobiele telefoons en hoogwaardige decoratieve onderdelen, en kan een dichte film vormen.

  • 4.jpg
  • 高速刀片.png
  • 表带.png
  • 切削刀具(70a45da006).png
  • 飞机涡轮叶片.png
  • 数控刀片.png

Vraag een gratis offerte aan

Onze vertegenwoordiger neemt spoedig contact met u op.
E-mail
Naam
Mobiel
Bedrijfsnaam
Bericht
0/1000

Vraag een gratis offerte aan

Onze vertegenwoordiger neemt spoedig contact met u op.
E-mail
Naam
Mobiel
Bedrijfsnaam
Bericht
0/1000
e-mail naar boven