非平衡閉じたマグネトロンスパッタリング／フィルタードカソードアーク（FCVA）技術を採用し、低温で水素含有／水素不含のDLC被膜を成膜。低摩擦、高耐摩耗性、自己潤滑性を有する。
■ 独立したDLCプロセスで、薄膜応力が小さく、亀裂や剥離が発生しない
■ 3次元取り外し可能なラックで、クランプが容易。さまざまなワークピースに適合
■ 完全自動運転システムで、プロセスパラメーターをワンタッチで呼び出し可能
■ 多種類のDLC薄膜システムと互換性があり、さまざまな作業条件に対応
■ 摩擦係数 ≤0.15、優れた自己潤滑性により、追加の潤滑は不要
■ 水素を含まないta-Cコーティングの硬度は最大63GPaで、優れた耐摩耗性を有する
■ 低温（100～200℃）での成膜で、熱感受性基板にも適している
■ 密度の高い薄膜で、酸・アルカリ耐性、耐食性、塩水噴霧耐性に優れる
| モデル | CCZK-1012-DLC | CCZK-1416-DLC | |||
| 部屋の大きさ | 直径1000mm×高さ1200mm | 直径1400mm×高さ1600mm | |||
| パワーロード | 140kW | 170kW | |||
| 設置面積 | 長さ5400mm×幅5200mm×高さ2900mm | 長さ6155mm×幅5050mm×高さ3210mm | |||
| コーティング色 | ブラック、ダークグレー、マットブラック、レインボー | ||||
| コーティングフィルム | 水素含有DLC、水素非含有ta-C、W-DLC、GLC、WC/C；硬度1500HV～63GPa、摩擦係数≤0.15 | ||||
| 掃除システム | 拡散ポンプ／ターボ分子ポンプ＋ブースターポンプ＋ロータリーバネポンプ＋保持ポンプ（低温ポンプおよびポリコールドはオプション） | ||||
| 最終真空度 | 5×10 -4Pa（清掃済み・空のチャンバー） | ||||
| 回転システム | 惑星式回転・公転 6／8／10／12／16軸 |
||||
| コーティングシステム | CKB ®平面スパッタリングカソード／CKB ®円筒ロッドスパッタリングカソード／ IET ®エッチング／分散型MFCガス経路／HIPIMSスパッタリング |
||||
| 電源 | パルスDCパッタリング電源／バイポーラパッタリング電源／ RFスパッタリング電源／パルスバイアス電源／HIPIMS電源／IET ®電力 |
||||
| オペレーションシステム | 完全自動（IPC／PLC）＋遠隔操作＋アラームシステム （OPC-UAリンクプロトコル対応） |
||||
| 備考 | 具体的な構成サイズは、顧客のコーティング対象製品の要件に応じて設計可能です。 | ||||
エンジンピストン、スライドシール、非鉄金属用切削工具、医療機器、高精度スマートフォン部品、高級装飾部品などに広く使用され、緻密な薄膜を形成できます。
EN
