Adota a tecnologia de pulverização catódica por magnetron fechado desbalanceado/filtro de arco catódico com FCVA, depositando filmes de revestimento DLC com ou sem hidrogênio em baixa temperatura, com baixo atrito, alta resistência ao desgaste e características autorreguladoras de lubrificação
■ Processo DLC independente, tensão reduzida na película, sem fissuras ou descascamento
■ Estrutura removível em 3D, fixação fácil, adequada para diversas peças
■ Sistema operacional totalmente automático, chamada de parâmetros do processo com um único toque
■ Compatível com diversos sistemas de películas DLC para atender a diferentes condições de trabalho
■ Coeficiente de atrito ≤0,15, excelente lubrificação própria, sem necessidade de lubrificação adicional
■ Revestimento ta-C isento de hidrogênio com dureza de até 63 GPa, excelente resistência ao desgaste
■ Deposição em baixa temperatura (100–200 °C), adequada para substratos sensíveis ao calor
■ Película densa, resistente a ácidos e álcalis, anticorrosiva e resistente à névoa salina
| Modelo | CCZK-1012-DLC | CCZK-1416-DLC | |||
| Tamanho da Câmera | D1000 mm * A1200 mm | D1400 mm * A1600 mm | |||
| Power Load | 140kw | 170kW | |||
| Área de Aterrissagem | C5400 mm * L5200 mm * A2900 mm | C6155 mm * L5050 mm * A3210 mm | |||
| Cores de Revestimento | Preto, Cinza Escuro, Preto Fosco, Arco-Íris | ||||
| Filmes de Revestimento | DLC contendo hidrogênio, ta-C isento de hidrogênio, DLC com tungstênio, DLC grafítico (GLC), WC/C; Dureza de 1500 HV a 63 GPa, coeficiente de atrito ≤ 0,15 | ||||
| Sistema de vácuo | Bomba de difusão / bomba molecular turbo + bomba de reforço + bomba de paletas rotativas + bomba de retenção (bomba criogênica e polycold são opcionais) | ||||
| Vácuo Final | 5*10 -4Pa (câmara limpa e vazia) | ||||
| Sistema de rotação | Rotação e revolução planetárias 6 / 8 / 10 / 12 / 16 eixos |
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| Sistema de Revestimento | CKB ®Cátodo de Espelhamento Planar / CKB ®Cátodo de Espelhamento com Haste Cilíndrica / IET ®Gravação / Caminho de Gás com MFC Distribuído / Espelhamento HIPIMS |
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| Fonte de Alimentação | Potência de pulverização CC pulsada / Potência de pulverização bipolar / Alimentação de Espelhamento RF / Alimentação de Polarização Pulsada / Alimentação HIPIMS / IET ®potência |
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| Sistema Operacional | Totalmente automático (IPC/PLC) + Operação Remota + Sistema de Alarme (Protocolo de ligação OPC-UA disponível) |
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| Observação | O tamanho da configuração específica pode ser projetado conforme os requisitos do cliente quanto ao produto a ser revestido | ||||
Amplamente utilizado em pistões de motores, selos deslizantes, ferramentas de corte para metais não ferrosos, dispositivos médicos, componentes precisos para telefones celulares e peças decorativas de alta gama, além de possibilitar a formação de uma película densa.





