Máy phủ lớp DLC (Carbon giống kim cương) bằng phương pháp lắng đọng hơi vật lý (PVD)

DLC PVD+PECVD C phủ
Công nghệ lắng đọng ở nhiệt độ thấp
Nguồn phún xạ từ đa đích

Giới thiệu

Sử dụng công nghệ bốc hơi lắng đọng bằng phóng điện catốt cung cấp hồ quang được lọc kết hợp với kỹ thuật bốc hơi lắng đọng bằng mục tiêu từ không cân bằng kín (unbalanced closed magnetron sputtering/FCVA), tạo lớp phủ DLC có chứa hydro/không chứa hydro ở nhiệt độ thấp, với đặc tính ma sát thấp, khả năng chống mài mòn cao và tự bôi trơn

Công nghệ cốt lõi

■ Quy trình DLC độc lập, ứng suất màng thấp, không nứt hoặc bong tróc

■ Giá đỡ 3D có thể tháo rời, dễ kẹp chặt, phù hợp với nhiều loại phôi khác nhau

■ Hệ thống điều khiển hoàn toàn tự động, gọi tham số quy trình chỉ bằng một nút bấm

■ Tương thích với nhiều hệ thống màng DLC khác nhau để đáp ứng các điều kiện làm việc đa dạng

Ưu Điểm Chính

■ Hệ số ma sát ≤0,15, khả năng tự bôi trơn xuất sắc, không cần bôi trơn bổ sung

■ Lớp phủ ta-C không chứa hydro có độ cứng lên đến 63 GPa, khả năng chống mài mòn vượt trội

■ Lắng đọng ở nhiệt độ thấp (100–200 ℃), phù hợp với các vật liệu nền nhạy cảm với nhiệt

■ Lớp màng đặc khít, chịu được axit và kiềm, chống ăn mòn, chống phun muối

Cấu hình cơ bản

Mô hình	CCZK-1012-DLC	CCZK-1416-DLC
Kích thước buồng	D1000mm*H1200mm	D1400mm*H1600mm
Power Load	140kw	170KW
Khu vực tiếp đất	D5400mmR5200mmC2900mm	D6155mmR5050mmC3210mm
Màu Lớp Phủ	Đen, Xám đậm, Đen mờ, Cầu vồng
Màng Phủ	DLC chứa hydro, ta-C không chứa hydro, DLC chứa vonfram (W-DLC), DLC tổng hợp (GLC), WC/C; Độ cứng 1500HV~63GPa, hệ số ma sát ≤0,15
Hệ thống chân không	Bơm khuếch tán / Bơm phân tử tua-bin + Bơm tăng áp + Bơm cánh gạt quay + Bơm giữ chân không (bơm cryogenic và bơm Polycold là tùy chọn)
Chân Không Tối Đa	5 × 10 ^-4Pa (Buồng sạch và trống)
Hệ thống xoay	Quay tự quay và quay quanh trục 6/8/10/12/16 trục

Hệ Thống Lớp Phủ	CKB ^®Catốt phún xạ phẳng / CKB ^®Catốt phún xạ thanh trụ / IET ^®Khắc mòn / Đường dẫn khí MFC phân bố / Phún xạ HIPIMS


Bộ nguồn máy tính	Công suất phún xạ DC xung / Công suất phún xạ lưỡng cực / Nguồn điện phún xạ RF / Nguồn điện phân cực xung / Nguồn điện HIPIMS / IET ^®điện
Hệ điều hành	Toàn tự động (IPC/PLC) + Điều khiển từ xa + Hệ thống cảnh báo (Giao thức kết nối OPC-UA có sẵn)

Ghi chú	Kích thước cấu hình cụ thể có thể được thiết kế theo yêu cầu sản phẩm phủ lớp của khách hàng

Ứng dụng

Được sử dụng rộng rãi trong piston động cơ, phớt trượt, dụng cụ cắt kim loại màu, thiết bị y tế, linh kiện điện thoại di động chính xác và các bộ phận trang trí cao cấp, đồng thời có thể tạo thành lớp phủ đặc khít.