Macchina per rivestimento PVD al carbonio di tipo diamante (DLC)

DLC PVD+PECVD C galleggiante
Tecnologia di deposizione a bassa temperatura
Sorgente di sputtering magnetron multi-target

Introduzione

Adotta la tecnologia di sputtering magnetron chiuso sbilanciato/arc cathode filtrato FCVA, che consente di depositare film di rivestimento DLC contenenti idrogeno o privi di idrogeno a bassa temperatura, con basso coefficiente di attrito, elevata resistenza all'usura e caratteristiche autolubrificanti

Tecnologia di base

■ Processo DLC indipendente, bassa tensione del film, nessuna crepa o distacco

■ Supporto 3D rimovibile, fissaggio agevole, adatto a vari pezzi in lavorazione

■ Sistema operativo completamente automatico, richiamo con un solo tasto dei parametri di processo

■ Compatibile con vari sistemi di film DLC per soddisfare diverse condizioni operative

Principali Vantaggi

■ Coefficiente di attrito ≤0,15, eccellente autolubrificazione, non richiede lubrificazione aggiuntiva

■ Rivestimento ta-C privo di idrogeno con durezza fino a 63 GPa, eccellente resistenza all’usura

■ Deposizione a bassa temperatura (100–200 °C), adatto a substrati sensibili al calore

■ Film denso, resistente ad acidi e basi, anticorrosivo, resistente alla nebbia salina

Configurazione di base

Modello	CCZK-1012-DLC	CCZK-1416-DLC
Dimensioni della camera	D1000 mm * H1200 mm	D1400 mm * H1600 mm
Power Load	140kw	170kW
Area di atterraggio	L5400 mm * L5200 mm * H2900 mm	L6155 mm * L5050 mm * H3210 mm
Colori della verniciatura	Nero, Grigio Scuro, Nero Opaco, Arcobaleno
Film di rivestimento	DLC contenente idrogeno, ta-C privo di idrogeno, W-DLC, GLC, WC/C; Durezza 1500 HV ~ 63 GPa, coefficiente di attrito ≤ 0,15
Sistema di vuoto	Pompa a diffusione / pompa molecolare turbo + pompa booster + pompa a palette rotanti + pompa di mantenimento (pompa criogenica e polycold sono opzionali)
Vuoto Finale	5*10 ^-4Pa (Camera pulita e vuota)
Sistema di rotazione	Rotazione e rivoluzione planetaria 6 / 8 / 10 / 12 / 16 assi

Sistema di Rivestimento	CKB ^®Catodo a sputtering planare / CKB ^®Catodo a sputtering per asta cilindrica / IET ^®Incisione / Percorso gas MFC distribuito / Sputtering HIPIMS


Alimentatore	Alimentazione a sputtering CC pulsata / Alimentazione a sputtering bipolare / Alimentazione a sputtering RF / Alimentazione a polarizzazione impulsata / Alimentazione HIPIMS / IET ^®potenza
Sistema Operativo	Completamente automatico (IPC/PLC) + Funzionamento remoto + Sistema di allarme (Protocollo di collegamento OPC-UA disponibile)

Osservazione	Le dimensioni della configurazione specifica possono essere progettate in base ai requisiti del cliente relativi al prodotto da rivestire

Applicazione

Ampia applicazione nei pistoni per motori, nelle guarnizioni scorrevoli, negli utensili da taglio per metalli non ferrosi, nei dispositivi medici, nei componenti di precisione per telefoni cellulari e nelle parti decorative di fascia alta, con possibilità di formare un film denso.