Macchina per rivestimento a vuoto PVD con sputtering a magnetron

Nucleo del bersaglio raffreddato indirettamente
Campo magnetico chiuso sbilanciato
Catodo planare/cilindrico opzionale

Introduzione

Adotta la tecnologia di sputtering con magnetron planare/rotante, in grado di depositare film metallici e composti densi e uniformi, adatti a vari substrati e applicazioni

Tecnologia di base

■ Obiettivi planari/rotanti opzionali, elevata adattabilità

■ Controllo PLC completamente automatico, facile da utilizzare

■ In grado di eseguire rivestimenti singoli/multi-strato, qualità eccellente del film puro

■ Adatto per pezzi lavorati di grandi/piccole dimensioni e con forme speciali

Principali Vantaggi

■ Film denso e uniforme con ottima adesione

■ Processo stabile con buona ripetibilità

■ Rivestimento a bassa temperatura, nessun danno ai substrati sensibili al calore

■ Elevata resa dell’obiettivo, costi di manutenzione ridotti

Configurazione di base

Modello	CCZK-700-SF	CCZK-1012-SF	CCZK-1416-SF	CCZK-1618-SF	CCZK-1820-SF
Dimensioni della camera	D700 mm × H700 mm	D1000 mm * H1200 mm	D1400 mm * H1600 mm	D1600 mm * H1800 mm	D1800 mm * H2000 mm
Power Load	58KW	75KW	175KW	230kW	255kw
Area di atterraggio	L4200 mm * L4200 mm * H2300 mm	L5400 mm * L5200 mm * H2900 mm	L6155 mm * L5050 mm * H3210 mm	L6500 mm * L4750 mm * H3200 mm	L7800 mm * L5200 mm * H2600 mm
Colori della verniciatura	Oro, Argento, Nero spazzolato, Oro rosa, Blu, Grigio, Trasparente
Film di rivestimento	Pellicola pura in metallo, pellicola in lega, pellicola composta; durezza 500–3000 HV, densa e resistente all’usura
Sistema di vuoto	Pompa a diffusione / pompa molecolare turbo + pompa booster + pompa a palette rotanti + pompa di mantenimento (pompa criogenica e polycold sono opzionali)
Vuoto Finale	5*10 ^-4Pa (Camera pulita e vuota)
Sistema di rotazione	Rotazione e rivoluzione planetaria 6 / 8 / 10 / 12 / 16 assi

Sistema di Rivestimento	CKB ^®Catodo a sputtering planare / CKB ^®Catodo a sputtering per asta cilindrica / IET ^®Incisione / Percorso gas MFC distribuito / Sputtering HIPIMS


Alimentatore	Alimentazione a sputtering CC pulsata / Alimentazione a sputtering bipolare / Alimentazione a sputtering RF / Alimentazione a polarizzazione impulsata / Alimentazione HIPIMS / IET ^®potenza
Sistema Operativo	Completamente automatico (IPC/PLC) + Funzionamento remoto + Sistema di allarme (Protocollo di collegamento OPC-UA disponibile)

Osservazione	Le dimensioni della configurazione specifica possono essere progettate in base ai requisiti del cliente relativi al prodotto da rivestire

Applicazione

Ampio utilizzo in componenti hardware decorativi, vetro per elettrodomestici, parti automobilistiche, prodotti digitali 3C, lenti ottiche, flaconi cosmetici in vetro, componenti per semiconduttori, componenti per strumenti di precisione e ornamenti artigianali di alta gamma; consente di ottenere colori ricchi e di formare uno strato di pellicola uniforme e denso.