Μηχάνημα Οπτικής Ακρίβειας για Επίστρωση σε Κενό με Μέθοδο PVD

Προγραμματισμός Συστήματος Πολυστρωματικού Φιλμ
Ελεγχόμενο ρεύμα δέσμης ηλεκτρονικού όπλου
Παρακολούθηση πάχους φιλμ με κρύσταλλο χαλαζία

Εισαγωγή

Χρησιμοποιεί σύνθετη τεχνολογία εξάτμισης με δέσμη ηλεκτρονίων/μαγνητρονικής απόθεσης με βοηθητική καταβόσκιση από πηγή ιόντων, ειδικά σχεδιασμένη για πολυστρωματικά ακριβή οπτικά φιλμ, προκειμένου να επιτευχθεί υψηλή ομοιογένεια, υψηλή καθαρότητα και υψηλή ακρίβεια στην απόθεση οπτικών φιλμ.

Βασική τεχνολογία

■ Διπλή λειτουργία παρακολούθησης του πάχους του φιλμ (κρυσταλλική/οπτική), πλήρως αυτόματος κλειστός βρόχος έλεγχος

■ Κατακόρυφη ενσωματωμένη δομή, μικρό εμβαδόν εγκατάστασης και εύκολη χειριστικότητα

■ Εναπόθεση με βοήθεια πηγής ιόντων, πυκνό και σταθερό φιλμ

■ Διπλή λειτουργία χειροκίνητης/πλήρως αυτόματης λειτουργίας, για ερευνητική & αναπτυξιακή εργασία και μαζική παραγωγή

Βασικά Προβάδια

■ Εισαγόμενο σύστημα παρακολούθησης του πάχους του φιλμ, ακρίβεια ελέγχου πάχους ≤±1%, εξαιρετική επαναληψιμότητα του συστήματος φιλμ

■ Προκαθαρμός με πηγή ιόντων, σημαντική βελτίωση της πρόσφυσης φιλμ-υποστρώματος

■ Υψηλό κενό, καθαρό φιλμ χωρίς ακαθαρσίες, 100% ποσοστό συμμόρφωσης με τις οπτικές προδιαγραφές

■ Συμβατό με διάφορες διαδικασίες επίστρωσης, ισχυρή προσαρμοστικότητα διαδικασίας

Βασική διαμόρφωση

Μοντέλο	CCZK-1350-OGS	CCZK-1600-OGS	CCZK-2050-OGS
Διαστάσεις Καμβάριου	Δ1350 mm × Υ1350 mm	Δ1600 mm × Υ1500 mm	Δ2050 mm × Υ1600 mm
Power Load	67KW	86 kW	105 kW
Περιοχή Προσγείωσης	Μήκος 5700 mm × Πλάτος 4900 mm × Ύψος 3050 mm	Μήκος 6800 mm × Πλάτος 5800 mm × Ύψος 6780 mm	Μήκος 8300 mm × Πλάτος 7000 mm × Ύψος 4200 mm
Επιστρώματα UV	Αντιανακλαστική επίστρωση AR, αντιδακτυλική επίστρωση AF, επίστρωση υψηλής ανάκλασης, φίλτρο επίστρωσης, ευρείας ζώνης αντιανακλαστική επίστρωση BBAR· η σκληρότητα της επίστρωσης AF είναι ≥6H, η οπτική επίστρωση είναι πυκνή και χωρίς μικροοπές
Σύστημα κενού	Αντλία διάχυσης/Αντλία τουρμπομοριακή + Ενισχυτική αντλία + Αντλία περιστροφικών πτερυγίων + Αντλία συγκράτησης (κρυογενική αντλία και πολυψυκτική αντλία είναι προαιρετικές)
Απόλυτο σύστημα	5*10^-4Pa (Καθαρό και άδειο θάλαμος)
Σύστημα Περιστροφής	Πλανητική περιστροφή και μεταφορική κίνηση 6/8/10/12/16 άξονες

Σύστημα Επικάλυψης	Ηλεκτρική δέσμη τύπου Ε Πηγή ιόντων Hall Κατανεμημένη διαδρομή αερίου με ρυθμιστή ροής μάζας (MFC) CTM ^®Παρακολούθηση Πάχους Κρυστάλλου Χαλαζία


Χορήγηση ενέργειας	Τροφοδοτικό ηλεκτρικής δέσμης Πηγή πλάσματος
Λειτουργικό Σύστημα	Πλήρως αυτόματο (IPC/PLC) + Απομακρυσμένη λειτουργία + Σύστημα συναγερμού (Διαθέσιμο πρωτόκολλο σύνδεσης OPC-UA)

Παρατήρηση	Το συγκεκριμένο μέγεθος της διαμόρφωσης μπορεί να σχεδιαστεί σύμφωνα με τις απαιτήσεις του πελάτη για το επικαλυπτόμενο προϊόν

Εφαρμογή

Χρησιμοποιείται ευρέως σε φακούς καμερών κινητών τηλεφώνων, οπτικούς φακούς, γυαλιά οράσεως, γυάλινες οθόνες αυτοκινήτων, οπτικά εξαρτήματα VR/AR και ακριβείς φίλτρα, και επιτρέπει τη δημιουργία ακριβούς και ομοιόμορφης επιστρώσεως με πλούσια οπτικά αποτελέσματα.