Оптическая прецизионная вакуумная машина для нанесения покрытий методом магнетронного распыления (PVD)

Программирование системы многослойных покрытий
Регулируемый ток электронного пучка электронно-лучевой пушки
Контроль толщины плёнки с помощью кварцевого резонатора

Введение

Использует комбинированную технологию испарения электронным лучом и магнетронного распыления с использованием ионного источника для осаждения покрытий, специально разработанную для многослойных прецизионных оптических плёнок, обеспечивающую высокую однородность, высокую чистоту и высокую точность осаждения оптических плёнок.

Основные технологии

■ Двухрежимный контроль толщины пленки (кварцевый/оптический), полностью автоматическое замкнутое управление

■ Вертикальная интегрированная конструкция, компактные габариты и простота эксплуатации

■ Осаждение с помощью ионного источника, плотная и прочная пленка

■ Ручной/полностью автоматический двухрежимный режим работы — подходит как для НИОКР, так и для серийного производства

Основные Преимущества

■ Импортная система контроля толщины пленки, точность управления толщиной ≤±1 %, превосходная повторяемость параметров пленочной системы

■ Предварительная очистка с помощью ионного источника, значительно улучшенное сцепление пленки с подложкой

■ Высоковакуумная среда, отсутствие примесей в пленке, 100 %-ное соответствие оптическим характеристикам

■ Совместимость с различными процессами нанесения покрытий, высокая адаптивность к технологическим процессам

Базовая конфигурация

Модель	CCZK-1350-OGS	CCZK-1600-OGS	CCZK-2050-OGS
Размер камеры	D1350 мм × H1350 мм	D1600 мм × H1500 мм	D2050 мм × В1600 мм
Power Load	67КВт	86 кВт	105 кВт
Площадь установки	Д5700 мм × Ш4900 мм × В3050 мм	Д6800 мм × Ш5800 мм × В6780 мм	Д8300 мм × Ш7000 мм × В4200 мм
Покровные плёнки	Плёнка AR (антибликовая), плёнка AF (антиотпечатковая), высокоотражающая плёнка, фильтрующая плёнка, широкополосная антибликовая плёнка BBAR; твёрдость плёнки AF ≥6H, оптическая плёнка плотная и без микропор
Вакуумная система	Диффузионный насос / Турбомолекулярный насос + Ускорительный насос + Пластинчато-роторный насос + Поддерживающий насос (криогенный насос и поликолд — опционально)
Окончательная система	5*10^-4Pa (очищенная и пустая камера)
Система вращения	Планетарное вращение и обращение 6/8/10/12/16 осей

Система покрытия	Электрическая балка типа E Ионный источник на основе эффекта Холла Распределённый газовый тракт с массовым расходомером (MFC) CTM ^®Монитор толщины кварцевого кристалла


Блок питания	Источник питания для электронного пучка Плазменное питание
Операционная система	Полностью автоматизированная система (на базе промышленного компьютера IPC и программируемого логического контроллера PLC) + Дистанционное управление + Система аварийной сигнализации (Доступен протокол связи OPC-UA)

Примечание	Конкретные габариты конфигурации могут быть разработаны в соответствии с требованиями заказчика к наносимому покрытию

Область применения

Широко применяется при производстве объективов для мобильных телефонов, оптических линз, очковых линз, автомобильных дисплейных стёкол, оптических компонентов для VR/AR-устройств и прецизионных фильтров; обеспечивает формирование точного и однородного слоя покрытия с богатыми оптическими эффектами.

Все категории