光学精密PVD真空コーティング機

イオン源補助堆積を伴う電子ビーム蒸発／マグネトロンスパッタリング複合技術を採用し、多層精密光学薄膜の高均一性、高純度および高精度な成膜を実現するために特別に設計されています。

■ ダブルモード膜厚監視（水晶／光学式）、完全自動クローズドループ制御

■ 垂直統合構造、省スペースで操作が容易

■ イオン源補助蒸着により、緻密で堅固な膜を形成

■ 手動／全自動のデュアルモード対応：研究開発および量産用途に両立

■ 輸入膜厚監視システム採用、膜厚制御精度 ≤±1％、優れた膜系再現性

■ イオン源による事前クリーニングで、膜と基板との密着性が大幅に向上

■ 高真空環境下での成膜のため、不純物が混入せず、光学性能の適合率は100％

■ 多様なコーティングプロセスに対応可能、プロセス適応性に優れる

モデル	CCZK-1350-OGS	CCZK-1600-OGS	CCZK-2050-OGS
部屋の大きさ	D1350mm×H1350mm	D1600mm×H1500mm	D2050mm×H1600mm
パワーロード	67KW	86kw	105KW
設置面積	L5700mm×W4900mm×H3050mm	L6800mm×W5800mm×H6780mm	L8300mm×W7000mm×H4200mm
コーティングフィルム	AR（反射防止）フィルム、AF（指紋防止）フィルム、高反射フィルム、フィルターフィルム、BBAR（広帯域反射防止）フィルム；AFフィルムの硬度は≥6H、光学フィルムは緻密でピンホールなし
掃除システム	拡散ポンプ／ターボ分子ポンプ＋ブースターポンプ＋ロータリーバネポンプ＋保持ポンプ（低温ポンプおよびポリコールドはオプション）
究極のシステム	5*10^-4Pa（チャンバーの清掃および空状態）
回転システム	惑星式回転・公転 6／8／10／12／16軸

コーティングシステム	E型電気ビームホールイオンソース分散型MFCガス供給系 CTM ^®水晶結晶厚さモニター


電源	電気ビーム電源装置プラズマ電源
オペレーションシステム	完全自動（IPC／PLC）＋遠隔操作＋アラームシステム（OPC-UAリンクプロトコル対応）

備考	具体的な構成サイズは、顧客のコーティング対象製品の要件に応じて設計可能です。