Máquina de recubrimiento al vacío PVD de precisión óptica

Programación del sistema de películas multicapa
Corriente del haz del cañón electrónico controlable
Monitoreo del espesor de la película mediante cristal de cuarzo

Introducción

Adopta tecnología compuesta de evaporación por haz de electrones y pulverización catódica magnetrónica con deposición asistida por fuente de iones, especialmente diseñada para películas ópticas de múltiples capas de alta precisión, para lograr una alta uniformidad, alta pureza y deposición de películas ópticas de alta precisión.

Tecnología central

■ Monitoreo dual del espesor de la película (cristal/óptico), control automático completo en bucle cerrado

■ Estructura integrada vertical, pequeña huella y fácil operación

■ Depósito asistido por fuente de iones, película densa y firme

■ Modo dual manual/totalmente automático, adecuado tanto para I+D como para producción en masa

Ventajas Principales

■ Sistema importado de monitoreo del espesor de la película, precisión de control del espesor ≤±1 %, excelente repetibilidad del sistema de película

■ Limpieza previa con fuente de iones, adherencia película-sustrato significativamente mejorada

■ Entorno de alto vacío, sin impurezas en la película, tasa de cumplimiento del 100 % en rendimiento óptico

■ Compatible con diversos procesos de recubrimiento, alta adaptabilidad al proceso

Configuración básica

Modelo	CCZK-1350-OGS	CCZK-1600-OGS	CCZK-2050-OGS
Tamaño de la cámara	D1350 mm × A1350 mm	D1600 mm × A1500 mm	D2050 mm × A1600 mm
Carga de Poder	67KW	86 kW	105kw
Área de aterrizaje	L5700 mm × A4900 mm × H3050 mm	L6800 mm × A5800 mm × H6780 mm	L8300 mm × A7000 mm × H4200 mm
Películas de recubrimiento	Película antirreflejo (AR), película antigüedades (AF), película de alta reflexión, película de filtro, película antirreflejo de banda ancha (BBAR); dureza de la película AF ≥6H, película óptica densa y libre de poros
Sistema de vacío	Bomba de difusión / bomba molecular turbo + bomba de refuerzo + bomba de paletas rotativas + bomba de retención (bomba criogénica y polibomba son opcionales)
Sistema definitivo	5*10^-4Pa (Cámara limpia y vacía)
Sistema de rotación	Rotación y traslación planetarias 6/8/10/12/16 ejes

Sistema de Recubrimiento	Haz eléctrico de tipo E Fuente de iones Hall Recorrido de gas con controladores de flujo masico (MFC) distribuidos CTM ^®Monitor de grosor de cristal de cuarzo


Fuente de alimentación	Fuente de alimentación para haz eléctrico Fuente de alimentación por plasma
Sistema Operativo	Totalmente automático (IPC/PLC) + operación remota + sistema de alarma (Protocolo de enlace OPC-UA disponible)

Observación	El tamaño de la configuración específica puede diseñarse según los requisitos del cliente respecto al producto a recubrir

Aplicación

Ampliamente utilizado en lentes de cámaras para teléfonos móviles, lentes ópticas, lentes para gafas, vidrio para pantallas automotrices, componentes ópticos para realidad virtual (VR) y realidad aumentada (AR), y filtros de precisión, y puede formar una capa uniforme y precisa con efectos ricos.