Adotta una tecnologia composita di evaporazione a fascio elettronico/sputtering a magnetron con deposizione assistita da sorgente ionica, appositamente progettata per film ottici multistrato di precisione al fine di ottenere un'elevata uniformità, purezza e precisione nella deposizione dei film ottici.
■ Monitoraggio dello spessore del film a doppia modalità (cristallo/ottico), controllo automatico completo in loop chiuso
■ Struttura integrata verticale, ingombro ridotto e semplicità di utilizzo
■ Deposizione assistita da sorgente ionica, film denso e resistente
■ Modalità manuale/completamente automatica, adatta sia per R&S che per produzione su larga scala
■ Sistema importato di monitoraggio dello spessore del film, accuratezza del controllo dello spessore ≤±1%, eccellente ripetibilità del sistema film
■ Prelavaggio con sorgente ionica, adesione film-substrato notevolmente migliorata
■ Ambiente ad alto vuoto, assenza di impurità nel film, tasso di conformità alle prestazioni ottiche pari al 100%
■ Compatibile con vari processi di rivestimento, elevata adattabilità ai processi
| Modello | CCZK-1350-OGS | CCZK-1600-OGS | CCZK-2050-OGS |
| Dimensioni della camera | D1350 mm * H1350 mm | D1600 mm * H1500 mm | D2050 mm * H1600 mm |
| Power Load | 67KW | 86kW | 105 kW |
| Area di atterraggio | L5700 mm * L4900 mm * H3050 mm | L6800 mm * L5800 mm * H6780 mm | L8300 mm * L7000 mm * H4200 mm |
| Film di rivestimento | Film antiriflesso (AR), film anti-impronta digitale (AF), film ad alta riflessione, film filtro, film antiriflesso a banda larga (BBAR); durezza del film AF ≥6H, il film ottico è denso e privo di pori | ||
| Sistema di vuoto | Pompa a diffusione / pompa molecolare turbo + pompa booster + pompa a palette rotanti + pompa di mantenimento (pompa criogenica e polycold sono opzionali) | ||
| Sistema finale | 5*10-4Pa (camera pulita e vuota) | ||
| Sistema di rotazione | Rotazione e rivoluzione planetaria 6 / 8 / 10 / 12 / 16 assi |
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| Sistema di Rivestimento | Fascio elettrico di tipo E Sorgente ionica a effetto Hall Percorso gas MFC distribuito CTM ®Monitor dello spessore del cristallo di quarzo |
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| Alimentatore | Alimentatore per fascio elettrico Fonte di alimentazione plasma |
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| Sistema Operativo | Completamente automatico (IPC/PLC) + Funzionamento remoto + Sistema di allarme (Protocollo di collegamento OPC-UA disponibile) |
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| Osservazione | Le dimensioni della configurazione specifica possono essere progettate in base ai requisiti del cliente relativi al prodotto da rivestire | ||
Ampio utilizzo nelle lenti delle fotocamere per telefoni cellulari, nelle lenti ottiche, nelle lenti per occhiali, nel vetro per display automobilistici, nei componenti ottici per realtà virtuale (VR) e realtà aumentata (AR) e nei filtri di precisione; può formare uno strato filmogeno preciso e uniforme con effetti ricchi.





