Установка вакуумного напыления методом магнетронного распыления (PVD)

Корпус мишени с косвенным охлаждением
Несбалансированное замкнутое магнитное поле
Плоский или цилиндрический катод (по выбору)

Введение

Применяет плоскую и вращающуюся магнетронные напылительные технологии, позволяющие наносить плотные и однородные металлические и композитные пленки, подходящие для различных подложек и условий эксплуатации

Основные технологии

■ Дополнительные планарные/роторные мишени, высокая адаптивность

■ Полностью автоматическое управление с помощью ПЛК, простота эксплуатации

■ Возможность нанесения однослойных и многослойных покрытий, высокое качество чистой пленки

■ Подходит для крупных, мелких и деталей сложной формы

Основные Преимущества

■ Плотная и однородная пленка с высокой адгезией

■ Стабильный процесс с хорошей воспроизводимостью

■ Нанесение покрытия при низкой температуре, отсутствие повреждений термочувствительных подложек

■ Высокий коэффициент использования мишени, низкие затраты на техническое обслуживание

Базовая конфигурация

Модель	CCZK-700-SF	CCZK-1012-SF	CCZK-1416-SF	CCZK-1618-SF	CCZK-1820-SF
Размер камеры	Ø700 мм × В700 мм	D1000 мм × В1200 мм	D1400 мм × В1600 мм	D1600 мм × В1800 мм	D1800 мм × В2000 мм
Power Load	58КВт	75КВт	175КВт	230kW	255квт
Площадь установки	Д4200 мм × Ш4200 мм × В2300 мм	Д5400 мм × Ш5200 мм × В2900 мм	Д6155 мм × Ш5050 мм × В3210 мм	Д6500 мм × Ш4750 мм × В3200 мм	Д7800 мм × Ш5200 мм × В2600 мм
Цвета покрытия	Золотой, серебряный, черный металлик, розовое золото, синий, серый, прозрачный
Покровные плёнки	Пленка из чистого металла, сплавная пленка, композитная пленка; твердость 500–3000 HV, плотная и износостойкая
Вакуумная система	Диффузионный насос / Турбомолекулярный насос + Ускорительный насос + Пластинчато-роторный насос + Поддерживающий насос (криогенный насос и поликолд — опционально)
Предел вакуума	5 × 10 ^-4Па (чистая и пустая камера)
Система вращения	Планетарное вращение и обращение 6/8/10/12/16 осей

Система покрытия	CKB ^®Планарный магнетронный катод для напыления / CKB ^®Цилиндрический стержневой магнетронный катод для напыления / IET ^®Травление / Распределённый газовый тракт с массовым расходомером (MFC) / Импульсное высокоэнергетическое магнетронное напыление (HIPIMS)


Блок питания	Импульсное постоянного тока распыление / Биполярное распыление / РЧ-напыление / Импульсное смещение / Импульсное высокоэнергетическое магнетронное напыление (HIPIMS) / Встроенный электронный термометр (IET) ^®мощность
Операционная система	Полностью автоматизированная система (на базе промышленного компьютера IPC и программируемого логического контроллера PLC) + Дистанционное управление + Система аварийной сигнализации (Доступен протокол связи OPC-UA)

Примечание	Конкретные габариты конфигурации могут быть разработаны в соответствии с требованиями заказчика к наносимому покрытию

Область применения

Широко применяется в декоративных деталях для фурнитуры, стекле бытовой техники, автомобильных деталях, цифровых продуктах 3C, оптических линзах, стеклянных флаконах для косметики, полупроводниковых компонентах, деталях прецизионных приборов и изделиях высокого художественного качества; обеспечивает насыщенные цвета и формирование однородного и плотного пленочного слоя.