Semua Kategori

Mesin Pelapisan Vakum PVD Sputtering Magnetron

Halaman Utama >  Produk >  Mesin Pelapisan Vakum PVD Sputtering Magnetron

Mesin Pelapisan Vakum PVD Sputtering Magnetron

  • Inti Target Berpendingin Tidak Langsung
  • Medan Magnet Tertutup Tidak Seimbang
  • Katoda Planar/Silindris (Pilihan)

Pendahuluan

Mengadopsi teknologi sputtering magnetron planar/rotari, mampu mengendapkan film logam dan senyawa yang padat serta seragam, cocok untuk berbagai substrat dan skenario aplikasi

Teknologi inti

■ Target planar/rotari opsional, kemampuan adaptasi yang kuat

■ Kontrol PLC sepenuhnya otomatis, pengoperasian mudah

■ Mampu melakukan pelapisan satu/multi-lapis, kualitas film murni

■ Cocok untuk benda kerja berukuran besar/kecil dan berbentuk khusus

Keunggulan Inti

■ Film rapat dan seragam dengan daya rekat yang kuat

■ Proses stabil dengan tingkat pengulangan yang baik

■ Pelapisan suhu rendah, tidak merusak substrat yang sensitif terhadap panas

■ Pemanfaatan target tinggi, biaya perawatan rendah

Konfigurasi dasar

Model CCZK-700-SF CCZK-1012-SF CCZK-1416-SF CCZK-1618-SF CCZK-1820-SF
Ukuran Kamar D700 mm × T700 mm D1000mm*T1200mm D1400mm*T1600mm D1600mm*T1800mm D1800mm*T2000mm
Power Load 58KW 75KW 175KW 230kW 255kw
Area Pendaratan P4200mm*L4200mm*T2300mm P5400mm*L5200mm*T2900mm P6155mm*L5050mm*T3210mm P6500mm*L4750mm*T3200mm P7800mm*L5200mm*T2600mm
Warna Pelapis Emas, Perak, Hitam Senapan, Emas Mawar, Biru, Abu-abu, Transparan
Film Lapisan Film logam murni, film paduan, film senyawa; Kekerasan 500–3000 HV, padat dan tahan aus
Sistem vakum Pompa difusi/pompa molekuler turbo + pompa penguat + pompa palet putar + pompa penahan (pompa kriogenik dan polycold bersifat opsional)
Vakum Akhir 5*10 -4Pa (Ruang bersih dan kosong)
Sistem rotasi Rotasi dan revolusi planetari
6/8/10/12/16 sumbu
Sistem Pelapisan CKB ®Katoda Sputtering Planar / CKB ®Katoda Sputtering Batang Silinder /
IET ®Etsa / Jalur Gas MFC Terdistribusi / Sputtering HIPIMS
Pasokan daya Daya Sputtering DC Pulsasi / Daya Sputtering Bipolar /
Daya Sputtering RF / Daya Bias Pulsasi / Daya HIPIMS / IET ®daya
Sistem Operasi Sepenuhnya otomatis (IPC/PLC) + Operasi jarak jauh + Sistem peringatan
(Protokol koneksi OPC-UA tersedia)
Catatan Ukuran konfigurasi spesifik dapat dirancang sesuai dengan kebutuhan pelanggan terhadap produk pelapisan

Aplikasi

Banyak digunakan pada komponen dekoratif perangkat keras, kaca peralatan rumah tangga, komponen otomotif, produk digital 3C, lensa optik, botol kaca untuk kosmetik, komponen semikonduktor, komponen instrumen presisi, serta ornamen kerajinan kelas atas; proses ini mampu menghasilkan warna-warna kaya serta membentuk lapisan film yang seragam dan padat.

  • 车标.png
  • 手机边框.png
  • 玻璃化妆品瓶.png
  • 轮毂.jpg
  • 黑色卫浴龙头.png
  • 一次性餐具.jpg

Dapatkan Penawaran Gratis

Perwakilan kami akan segera menghubungi Anda.
Email
Nama
Ponsel
Nama Perusahaan
Pesan
0/1000

Dapatkan Penawaran Gratis

Perwakilan kami akan segera menghubungi Anda.
Email
Nama
Ponsel
Nama Perusahaan
Pesan
0/1000
email kembaliKeAtas